英特尔展示ASML首台High-NA EUV光刻机交付过程

英特尔展示ASML首台High-NA EUV光刻机交付过程

IT之家 3 月 5 日消息，英特尔携手 ASML 宣布高数值孔径 High NA EUV 光刻机实现“初次曝光”里程碑后，近日再次分享了一段视频，展示了在英特尔位于美国俄勒冈州的 D1X 工厂内，ASML 工程团队安装调试的部分画面。

英特尔在视频中记录了第一台光刻扫描仪 ASML Twinscan EXE:5000 的交付过程，从视频来看相关组件是通过空运从荷兰运到美国的，因此相比海运可以进一步缩短交货时间。

ASML 于今年 2 月展示了 High-NA 极紫外 (EUV) 光刻机，价值 3.5 亿欧元（IT之家备注：当前约 27.2 亿元人民币），重量相当于两架空客 A320 客机，被 ASML 公司宣称为芯片制造商参与人工智能热潮的“必备品”。

ASML 发言人 Monique Mols 在公司位于荷兰费尔霍芬的总部举行的媒体参观活动中表示，安装这台重达 150000 公斤的系统共计用时 6 个月，需要 250 个集装箱和 250 名工程师。